粗抛阶段
粗抛阶段的目的是快速去除表壳表面的粗糙和划痕,为后续的精抛打下基础。选择适当的粗抛抛光液尤为重要。在这个阶段,推荐使用较粗粒径的氧化铝或碳化硅抛光液。
推荐粒径:
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15-20μm的
氧化铝抛光液
:这种粒径的抛光液颗粒较大,具有较强的切削力,能够迅速去除表面的粗糙和明显的划痕。
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20-30μm的碳化硅抛光液:碳化硅的硬度较高,适用于硬质金属表壳的粗抛,可以有效去除深层划痕。
中抛阶段
中抛阶段的目的是进一步细化表面,使其更加平滑,为最终的精抛做好准备。此阶段应选择较细粒径的抛光液。
推荐粒径:
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10-15μm的
氧化铝抛光液:相比粗抛,这种粒径的抛光液颗粒更细,能够有效去除粗抛留下的细小划痕和瑕疵,平整表面。
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15-20μm的碳化硅抛光液:适用于较硬表壳材料的中抛,能够进一步提升表面平滑度。
精抛阶段
精抛阶段的目的是实现表壳的高光泽和镜面效果。这是最关键的阶段,需要使用最细粒径的抛光液。
推荐粒径:
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0.5-3μm的金刚石抛光液:金刚石抛光液具有极高的硬度和细度,能够提供最优的镜面效果,适用于各种材质的表壳。
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1-3μm的
氧化铝抛光液:在金刚石抛光液之前使用这种粒径的氧化铝抛光液,可以进一步细化表面,提高光洁度。
抛光液的选择与使用建议
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氧化铝抛光液:适用于大多数金属和非金属表壳的抛光,具有较高的性价比。在粗抛和中抛阶段表现出色。
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碳化硅抛光液:适用于硬质金属的抛光,如不锈钢和钛合金表壳,切削力强,效率高。
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金刚石抛光液:适用于最终的精抛阶段,能够提供最高的光洁度和镜面效果,适合高端产品的抛光需求。
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