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镜面抛光技术知识
平磨机抛表壳的精抛镜面效果
来源: 振鸿兴 时间:2024-05-18

 粗抛阶段

      粗抛阶段的目的是快速去除表壳表面的粗糙和划痕,为后续的精抛打下基础。选择适当的粗抛抛光液尤为重要。在这个阶段,推荐使用较粗粒径的氧化铝或碳化硅抛光液。

推荐粒径:

中抛阶段

      中抛阶段的目的是进一步细化表面,使其更加平滑,为最终的精抛做好准备。此阶段应选择较细粒径的抛光液。振鸿兴氧化铝抛光液

推荐粒径:

  • 10-15μm氧化铝抛光液:相比粗抛,这种粒径的抛光液颗粒更细,能够有效去除粗抛留下的细小划痕和瑕疵,平整表面。
  • 15-20μm的碳化硅抛光液:适用于较硬表壳材料的中抛,能够进一步提升表面平滑度。

精抛阶段

      精抛阶段的目的是实现表壳的高光泽和镜面效果。这是最关键的阶段,需要使用最细粒径的抛光液。

推荐粒径:

  • 0.5-3μm的金刚石抛光液:金刚石抛光液具有极高的硬度和细度,能够提供最优的镜面效果,适用于各种材质的表壳。
  • 1-3μm氧化铝抛光液:在金刚石抛光液之前使用这种粒径的氧化铝抛光液,可以进一步细化表面,提高光洁度。

抛光液的选择与使用建议

  1. 氧化铝抛光液:适用于大多数金属和非金属表壳的抛光,具有较高的性价比。在粗抛和中抛阶段表现出色。
  2. 碳化硅抛光液:适用于硬质金属的抛光,如不锈钢和钛合金表壳,切削力强,效率高。
  3. 金刚石抛光液:适用于最终的精抛阶段,能够提供最高的光洁度和镜面效果,适合高端产品的抛光需求。

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