二氧化硅抛光液主要的粒径有20nm~200nm，粗糙度要做到0.02，选择的抛光液在100nm即可达到，如果需要更精密的抛光效果，可以选择100nm以下的抛光液。

      二氧化硅抛光液适合各类金属或玻璃制品的抛光工序，3C制品表面抛光要求的精密度高，因此在镜面收光工序广泛应用，抛光后需要用超声波清洗，二氧化硅抛光液使用后表面容易结晶，清洗动作必须在使用完成后立即去做，保证金属抛光后表面的清洁度，正常使用抛光液在机内循环不会结晶，所以清洗的环节非常重要。                                                     

      二氧化硅抛光液使用后用粗糙度仪器检测表面效果，粗糙度测试0.022，符合镜面抛光要求，一般的氧化铝抛光液粗糙度在0.08左右，适合中抛，镜面抛光选择二氧化硅抛光液抛光效率高，表面效果更精密，现在的电子产品表面要求也是越来约高，如果要打磨出标准的效果，可以选择抛光液定制服务，根据表面效果科学配比，效率高效果好！                                                                                     

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