50纳米的 二氧化硅粒度适用于需要超细磨削和抛光的任务。这种极小粒度的二氧化硅可以在微观层面上进行磨削，使表面变得更加光滑，消除微小的瑕疵，从而创造出令人惊叹的镜面效果。它常常用于高精密光学元件、半导体材料等领域。

        120纳米和150纳米的二氧化硅粒度更适合用于较大表面的抛光和打磨。这两种粒度的 二氧化硅 在不同的应用中都能表现出色，它们可以改进表面的光洁度，减少划痕和不均匀。它们通常用于金属工件、陶瓷、塑料和其他材料的加工过程中。